【CNMO讯】SK海力士日前宣布，公司已完成中国无锡DRAM工厂的扩建。 这家半导体制造商投资 8.36 亿美元建立了一个名为 C2F 的新工厂，这将使 SK 海力士将其 DRAM 月产能提高到 180,000 片。
SK海力士在新落成的C2F工厂举行了相应的庆祝仪式，该工厂占地58000平方米，已经开始生产。 新的 DRAM 工厂有望帮助 SK 海力士跟上快速增长的中国制造商的步伐。
SK海力士
公司高级副总裁 Kang Young-soo 表示，无锡工厂将确保他们实现公司的中长期业务计划。 通过运营现有的 C2 和 C2F 工厂，他们将能够最大限度地提高生产效率。
SK海力士目前拥有四家工厂，中国和韩国各两家。 中国无锡工厂于2006年率先建成投产，至今SK海力士约一半的DRAM产量都来自这里。 尽管目前半导体行业因市场供过于求而不容乐观海力士楼宇自控，但SK海力士仍将按照原计划继续扩张。 该公司透露，扩建工厂是为了提升DRAM芯片的微处理能力，不会增加公司的出货量。 此外，公司还承诺将继续控制投资规模，避免加剧市场供过于求的局面。
SK海力士高管还补充说，无锡工厂的扩建也符合该公司在京畿道龙仁建设半导体产业园的计划。
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